Photolithography는 반도체 제조공정에 있어 patterning을 위해 빠질 수 없는 전공정 과정 중 하나로서, 대학 연구실에서도 소자제작을 위해 사용하는 공정입니다. wafer-scale integration 등 보다 single device demonstration 등에 집중한 경우 SEM 등에 별도 e-beam 장비를 설치하여 e-beam lithography를 이용해 원하는 패턴을 만드는 경우가 많지만, 동일 패턴을 많이 만들어야 하는 경우 등에서는 여전히 photolithography를 사용합니다.

Cleanroom이 있는 학교의 경우 이 photolighography 장비가 yellow room에 있을 텐데, 이는 PR이 단파장에 반응하기 때문에 필요이상의 노광을 막고자 함에 있습니다. 물론 yellow room도 빛이 존재하므로 PR에 따라서 조금씩 노광이 될 수 있다고는 합니다. 가시광선 영역대에서 파장이 가장 긴 빨간색 대역을 사용하면 그런 효과를 최소화 할 수 있겠으나, 빨간빛 아래서 몇 시간씩 공정을 하고 싶진 않기에 대안으로 노란색 빛을 사용한다고 합니다. 저희 학교의 경우, MA6 Mask Aligner가 설치되어 있어 이에 맞춰서 공정과정을 정리하였습니다.

Wafer Priming

PR Coating

Soft Bake

Photo Lithogrpahy

Post Exposure Bake (PEB)

Develop